第630章 国产1微米光刻机（第16更,吐血（1 / 2）

几天后，林棋看到蒙欣这段时间很清闲，不免纳闷。

“老婆，林蒙科技的1微米光刻机怎么样了？”林棋问道，“好几年了，去年听你说，就剩下少数几个关键的项目没攻克。”

对于蒙欣的能力，他自然是一百个放心，而且经过了长时间的磨合之后，原本那帮牛气冲天的各领域的天才，已经被调教的很好。

实际上，科研领域的人，虽然有不少弄虚作假的。但真正像新创业系或林蒙科技这种商业为主的研发投入，是绝对容不下弄虚作假。

资本对于回报率的重视，必然会用各种办法将假货、水货给排除在外。剩下的，自然就是真正有本事，能做项目的人。

这些人，自然是对水平比自己高的更加福气。

“实际上，已经成功了，过段时间验收完成，就会公布结果了。”蒙欣鬓发还有些散乱，说到这个立马露出几分自豪。

“真的？”林棋立马停住了筷子，这是个令人振奋的消息，光刻机技术一直都是国内市场的短板，长时间被国外把控。

光刻机的品牌众多，但真正的高精尖技术，一直都是技术难点，高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在十几纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机。

高端光刻机堪称现代光学工业之花，制造难度相当大，放眼全球，能够生产的公司也不过寥寥几个，国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。

而我国的光刻机起步比较晚，此时只是在萌芽状态。在后世，国产的光刻机，基本上都是低端市场的产品！

很多人为国内的互联网公司骄傲，但却发现，支撑互联网和硬件的那些关键芯片，很多都不能够国产化。

而制造芯片，最关键的又需要光刻机，以及一系列配套的产业。

但光刻机是绝对是重中之重，自主掌握光刻机的制造和技术升级之后，一系列的半导体的产业，就开始有了根，能够真正的围绕着这种核心制造技术不断的发展，精研！

“我们光刻机，基本上整合了国内有想法有能力的团队，集中了全国最有理想的技术人员，以及跨行业跨学科的专家的廉价甚至无偿的技术支持。虽然，我们出钱，但是，国家实际上，也暗中支持了不少资源，没有举国之力，即使我有大量的未来资料，也不能将这种技术实用化！但是，这次出成果之后就简单了，一下子就把我们国家跟国际上的技术差距从十年以上，拉近到了不到3年。主流的技术厂商，比如日本的半导体工厂，用的光刻机就未必比我们先进，所以，激发了国内业界的斗志和信心。以后，再要由我们来主导这种技术攻关，就不是那么难了！”

蒙欣一下子打开了话匣子，光刻机是林蒙多年研发的成果，突破技术封锁很难，而购买专利可不是那么简单的，这个想法不是没有过，不够几家国际公司的报价几乎是天价。

蒙欣好强的性子被激发，在巨大的资金注入下，终于是取得了不错的成绩。

“太好了，1微米光刻机研发成功，国内半导体工艺水平跟国际先进水平至少缩短到3年，有了这个铺垫，我相信我们很快就可以迎头赶上。”

林棋喜形于色，这可不仅仅是对新创业的功劳，而是一次性提高了国内光刻机水平，可以预见的是，政府在政策上肯定会有倾斜，至于人才，林蒙就有大量的储备，而且每一年都是在物色好的人选，蒙欣开出的工资非常不错，迄今为止，没有出现一个员工流失，让林棋也是不得不佩服。

这样的人才基本都是高精尖，走到哪里都能吃香，他们留下的原因，也绝对不仅仅是因为工资，还有蒙欣的管理手段，虽然开始的时候蒙欣给了他们一个下马威，但效果明显很不错。

“这算什么？我们还有沉浸式光刻技术，这个技术太牛逼了！影响未来几十年，后来欧洲的荷兰ASML彻底一家独大，主要就是因为路线正确，走了沉浸式光刻的路线。而日本的厂商，由于路线错了，在21世纪初，半导体制造工艺卡在65纳米时，从原本光刻机产能领先的国家，迅速的开始变成只能供应中低产光刻机，并且，还在不断失败和破产！”蒙欣很自信的说道，“所以，科技研发的路线很正常，关键的时期，技术抉择，选对了路线，就有可能赢家通吃，奠定几十年的优势！”

“你是说，未来国内的半导体产业的工艺能做到国际领先？”林棋不仅震惊。

“对！不用ASML的光刻机，我可以研发更好的。”蒙欣傲然说道，“以后，光刻机市场，林蒙科技说了算，不仅仅国内，全球范围内，等到我们的更关键的技术突破出现后，就是那样的格局了。”

……

89年10月9号，林蒙科技公司正是对外宣布，1微米光科技研发成功，瞬间引起了国内外科技行业和媒体强烈关注。